Рен Чжэнфэй представил предисловие к интервью Хэ Тинбо, утвердив закон Тау как единственный жизнеспособный путь прорыва Huawei в области полупроводников. Закон Тау, также известный как закон Хэ, заменяет геометрическое уменьшение (Закон Мура) оптимизацией во временной области, позволяя согласовать устройства, схемы, чипы и системы в пределах 12 порядков величины.
Практическое применение закона Тау принесло значительные плоды. За период более шести лет Huawei разработала и произвела 381 модель чипов, охватывающих сотни отраслей. Эти модели прошли стадию tape-out, что означает готовность кремниевых пластин к производству, а не просто демонстрации PPT.
Предстоящий чип Kirin, который выйдет осенью 2026 года, будет использовать технологию LogicFolding. Эта технология снижает длину критического пути проводника посредством трехмерной логической оптимизации, вместо того чтобы просто уменьшать размеры транзисторов. Долгосрочной целью является достижение плотности транзисторов процесса 1,4 нанометра к 2031 году за счет оптимизации во временной области и интеграции передовой упаковки, что позволит добиться производительности передовых узлов без доступа к самым современным литографическим установкам.
Huawei продемонстрировала восстановление своей цепочки поставок чипов во всех сегментах рынка, поскольку чипы Kirin теперь покрывают весь ценовой диапазон — от бюджетных до премиальных. Кроме того, смартфон Mate 80 продал 7,76 миллиона единиц за восемь месяцев, а Pura 90s был запущен по всему миру 20 июля с поддержкой 5G NR на зарубежных площадках впервые с 2020 года.
Ожидается, что Mate XT2 Ultimate Design, запланированный на сентябрь 2026 года, примет U-образный механизм складывания, заменив ранее использовавшийся Z-образный дизайн, что свидетельствует о продолжающихся механических инновациях в складном форм-факторе. В то же время, бизнес Ascend AI демонстрирует годовой рост свыше 90%, а облачный бизнес занимает одну из трех лучших позиций спустя шесть лет. Закон Тау выходит за рамки чипов, распространяясь на системную оптимизацию. Принцип коммуникации Рен заключается в том, чтобы только объяснять, а никогда спорить. Таким образом, закон Тау трансформирует Huawei из компании, ограниченной процессом, в новатора системной архитектуры.
Китай начал серийное производство иммерсионных литографических машин DUV, технологии, критически важной для производства полупроводников. Этот прогресс укрепляет стратегию Пекина по снижению зависимости от международных поставщиков.
Этот проект реализуется государственной компанией со штаб-квартирой в Шанхае и знаменует собой веху в китайских усилиях по достижению технологического суверенитета, хотя он все еще уступает более сложным устройствам, предлагаемым ASML.
Как сообщает Reuters, компания Shanghai Aishengna Electronic Technology Group возглавляет производство этого оборудования, объединяя команды китайских стартапов, специализирующихся на литографии. Компания, основанная в августе 2023 года, имеет зарегистрированный капитал в 7 миллиардов юаней, а ее акционерами являются две государственных корпорации, связанные с Шанхаем.
Технология DUV (глубокий ультрафиолет) используется для нанесения схем на кремниевые пластины, что является одним из самых жизненно важных этапов в производстве чипов. В иммерсионных системах использование слоя воды между линзой и пластиной позволяет создавать более тонкие и точные рисунки. Применение этих систем включает производство различных типов чипов, создание более совершенных полупроводников посредством многократного экспонирования, разработку альтернатив для местных производителей и смягчение рисков, связанных с возможными торговыми ограничениями.
Несмотря на этот значительный прорыв, машины, производимые в Китае, все еще требуют испытаний и в краткосрочной перспективе не должны представлять угрозы доминирующему положению ASML, голландской компании, лидирующей на рынке литографического оборудования. Reuters отмечает, что это развитие является победой для китайской программы самообеспечения в области полупроводников, что является приоритетной целью президента Си Цзиньпина.
Однако эксперты подчеркивают, что разработка прототипов и возможность выпуска надежного оборудования в больших объемах — это разные задачи. Аналитики JP Morgan Chase отметили, что производство некоторых иммерсионных DUV-устройств отличается от создания инструментов, пригодных для крупносерийного производства, где такие факторы, как выход годных, выравнивание, скорость и надежность в течение тысяч производственных циклов имеют решающее значение.
Эта инициатива происходит на фоне ограничений, введенных Соединенными Штатами и Нидерландами в отношении передовых технологий для производства чипов. Китай был запрещен на приобретение наиболее сложных систем EUV от ASML, необходимых для производства самых современных полупроводников.
Несмотря на эти ограничения, Китай остается важным рынком для голландского производителя. По данным Reuters, в первом полугодии года Китай составил около 16% чистого объема продаж ASML. Новое оборудование должно быть поставлено китайским производителям, таким как SMIC, Hua Hong Semiconductor и ChangXin Memory Technologies (CXMT), еще в этом году. Разработка также включает другие компании, такие как Shanghai Micro Electronics Equipment (SMEE) и Yuliangsheng.
Этот новый этап в китайской полупроводниковой промышленности демонстрирует, что мировая технологическая конкуренция продолжает развиваться. Хотя внутреннее производство литографических машин не устраняет полностью внешнюю зависимость, оно расширяет способность страны строить более автономную цепочку поставок чипов.
