A China começou a fabricar em escala nacional máquinas de litografia DUV por imersão, uma tecnologia crucial para a produção de semicondutores. Este progresso fortalece a estratégia de Pequim visando diminuir sua dependência de fornecedores internacionais.
Nova fase na autonomia tecnológica
Este projeto é conduzido por uma empresa estatal sediada em Xangai e representa um marco na busca chinesa por soberania tecnológica, embora ainda esteja aquém dos equipamentos mais sofisticados oferecidos pela ASML.
Detalhes da produção chinesa
Conforme noticiado pela Reuters, a Shanghai Aishengna Electronic Technology Group está liderando a manufatura desses equipamentos, integrando equipes de startups chinesas especializadas em litografia. Fundada em agosto de 2023, a companhia possui um capital registrado de 7 bilhões de yuans, sendo seus acionistas duas corporações estatais vinculadas a Xangai.
A tecnologia DUV (ultravioleta profundo) é utilizada para desenhar circuitos em wafers de silício, constituindo uma das fases mais vitais na fabricação de chips. Nos sistemas de imersão, o uso de uma camada de água entre a lente e o wafer possibilita a criação de padrões mais finos e exatos. As aplicações desses sistemas incluem a fabricação de diversos tipos de chips, a produção de semicondutores mais avançados através de múltiplas exposições, a criação de alternativas para fabricantes locais e a mitigação dos riscos decorrentes de eventuais restrições comerciais.
Desafios e comparação com líderes globais
Apesar deste avanço significativo, as máquinas produzidas na China ainda necessitam de testes e, no curto prazo, não devem representar uma ameaça à posição dominante da ASML, empresa holandesa líder no mercado de equipamentos de litografia. A Reuters aponta que este desenvolvimento é uma vitória para o programa chinês de autossuficiência em semicondutores, uma meta prioritária do presidente Xi Jinping.
Entretanto, especialistas ressaltam que desenvolver protótipos e conseguir produzir equipamentos confiáveis em grande volume são desafios distintos. Analistas do JP Morgan Chase comentaram que produzir alguns instrumentos DUV de imersão difere de fabricar ferramentas aptas para produção em alto volume, onde fatores como rendimento, alinhamento, velocidade e confiabilidade ao longo de milhares de ciclos de produção são cruciais.
Contexto geopolítico da corrida por chips
Esta iniciativa ocorre em um cenário de restrições impostas pelos Estados Unidos e pela Holanda sobre tecnologias avançadas para a fabricação de chips. A China foi barrada de adquirir os sistemas EUV mais complexos da ASML, essenciais para a produção dos semicondutores mais modernos.
Mesmo diante dessas limitações, a China permanece um mercado importante para a fabricante holandesa. Segundo a Reuters, a China representou aproximadamente 16% das vendas líquidas da ASML no primeiro semestre do ano. Os novos equipamentos devem ser entregues ainda neste ano a fabricantes chineses como SMIC, Hua Hong Semiconductor e ChangXin Memory Technologies (CXMT). O desenvolvimento também envolve outras empresas, como Shanghai Micro Electronics Equipment (SMEE) e Yuliangsheng.
Essa nova fase na indústria chinesa de semicondutores demonstra que a disputa tecnológica mundial segue em evolução. Embora a produção interna de máquinas de litografia não elimine totalmente a dependência externa, ela expande a capacidade do país de edificar uma cadeia de chips mais autônoma.
